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Chine Processus d'épitaxie SiC Fabricant, fournisseur, usine

Les revêtements en carbure uniques de VeTek Semiconductor offrent une protection supérieure aux pièces en graphite dans le processus d'épitaxie SiC pour le traitement de matériaux semi-conducteurs et composites exigeants. Le résultat est une durée de vie prolongée des composants en graphite, la préservation de la stœchiométrie de la réaction, l'inhibition de la migration des impuretés vers les applications d'épitaxie et de croissance cristalline, ce qui se traduit par un rendement et une qualité accrus.

Nos revêtements en carbure de tantale (TaC) protègent les composants critiques des fours et des réacteurs à haute température (jusqu'à 2 200 °C) contre l'ammoniac chaud, l'hydrogène, les vapeurs de silicium et les métaux en fusion. VeTek Semiconductor dispose d'une large gamme de capacités de traitement et de mesure du graphite pour répondre à vos besoins personnalisés. Nous pouvons donc proposer un revêtement payant ou un service complet, avec notre équipe d'ingénieurs experts prêts à concevoir la solution adaptée à vous et à votre application spécifique. .

Cristaux semi-conducteurs composés

VeTek Semiconductor peut fournir des revêtements TaC spéciaux pour divers composants et supports. Grâce au processus de revêtement de pointe de VeTek Semiconductor, le revêtement TaC peut obtenir une pureté élevée, une stabilité à haute température et une résistance chimique élevée, améliorant ainsi la qualité du produit des couches cristallines TaC/GaN) et EPL, et prolongeant la durée de vie des composants critiques du réacteur.

Isolateurs thermiques

Composants de croissance cristalline SiC, GaN et AlN, notamment creusets, porte-graines, déflecteurs et filtres. Assemblages industriels comprenant des éléments chauffants résistifs, des buses, des anneaux de blindage et des dispositifs de brasage, des composants de réacteurs CVD épitaxiaux GaN et SiC, y compris des supports de tranches, des plateaux satellites, des pommes de douche, des capuchons et des socles, des composants MOCVD.


But:

Support de plaquette LED (diode électroluminescente)

Récepteur ALD (semi-conducteur)

Récepteur EPI (procédé d'épitaxie SiC)


Comparaison du revêtement SiC et du revêtement TaC :

SiC TaC
Caractéristiques principales Ultra haute pureté, excellente résistance au plasma Excellente stabilité à haute température (conformité au processus à haute température)
Pureté >99,9999 % >99,9999 %
Densité (g/cm 3) 3.21 15
Dureté (kg/mm ​​2) 29h00-33h00 6.7-7.2
Résistivité [Ωcm] 0,1-15 000 <1
Conductivité thermique (W/m-K) 200-360 22
Coefficient de dilatation thermique (10-6/℃) 4,5-5 6.3
Application Gabarit en céramique pour équipement de semi-conducteur (bague de mise au point, pomme de douche, plaquette factice) Croissance monocristalline SiC, Epi, pièces d'équipement LED UV


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Anneaux de guidage de revêtement TaC

Anneaux de guidage de revêtement TaC

En tant que fabricant leader de produits d'anneaux de guidage à revêtement TaC en Chine, les anneaux de guidage à revêtement TaC VeTek Semiconductor sont des composants importants de l'équipement MOCVD, garantissant une distribution de gaz précise et stable pendant la croissance épitaxiale, et constituent un matériau indispensable dans la croissance épitaxiale des semi-conducteurs. Bienvenue à nous consulter.

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Carbure de tantale poreux

Carbure de tantale poreux

VeTek Semiconductor est un fabricant professionnel et leader de produits en carbure de tantale poreux en Chine. Le carbure de tantale poreux est généralement fabriqué par la méthode de dépôt chimique en phase vapeur (CVD), garantissant un contrôle précis de la taille et de la distribution de ses pores, et constitue un outil matériel dédié aux environnements extrêmes à haute température. Bienvenue à votre consultation ultérieure.

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Anneau en carbure de tantale

Anneau en carbure de tantale

En tant que fabricant et producteur avancé de produits d'anneaux en carbure de tantale en Chine, l'anneau en carbure de tantale VeTek Semiconductor présente une dureté, une résistance à l'usure, une résistance aux températures élevées et une stabilité chimique extrêmement élevées et est largement utilisé dans le domaine de la fabrication de semi-conducteurs. En particulier dans les processus CVD, PVD, d'implantation ionique, de gravure et de traitement et de transport de plaquettes, c'est un produit indispensable pour le traitement et la fabrication de semi-conducteurs. Dans l’attente de votre prochaine consultation.

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Support de revêtement en carbure de tantale

Support de revêtement en carbure de tantale

En tant que fabricant professionnel de produits de support de revêtement en carbure de tantale et usine en Chine, le support de revêtement en carbure de tantale VeTek Semiconductor est généralement utilisé pour le revêtement de surface de composants structurels ou de composants de support dans des équipements semi-conducteurs, en particulier pour la protection de surface des composants clés de l'équipement dans les processus de fabrication de semi-conducteurs tels que CVD et PVD. Bienvenue à votre consultation ultérieure.

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Anneau de guidage en carbure de tantale

Anneau de guidage en carbure de tantale

VeTek Semiconductor est un fabricant professionnel et leader de produits d'anneaux de guidage en carbure de tantale en Chine. Notre anneau de guidage en carbure de tantale (TaC) est un composant annulaire haute performance en carbure de tantale, couramment utilisé dans les équipements de traitement des semi-conducteurs, en particulier dans les environnements à haute température et hautement corrosifs tels que CVD, PVD, gravure et diffusion. VeTek Semiconductor s'engage à fournir des technologies et des solutions de produits avancées pour l'industrie des semi-conducteurs et accueille favorablement vos demandes complémentaires.

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Suscepteur de rotation du revêtement TaC

Suscepteur de rotation du revêtement TaC

En tant que fabricant professionnel, innovateur et leader des produits TaC Coating Rotation Susceptor en Chine. Le suscepteur de rotation de revêtement VeTek Semiconductor TaC est généralement installé dans les équipements de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et d'épitaxie par jet moléculaire (MBE) pour soutenir et faire tourner les tranches afin d'assurer un dépôt de matériau uniforme et une réaction efficace. C'est un élément clé dans le traitement des semi-conducteurs. Bienvenue à votre consultation ultérieure.

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En tant que fabricant et fournisseur professionnel Processus d'épitaxie SiC en Chine, nous disposons de notre propre usine. Que vous ayez besoin de services personnalisés pour répondre aux besoins spécifiques de votre région ou que vous souhaitiez acheter du Processus d'épitaxie SiC avancé et durable fabriqué en Chine, vous pouvez nous laisser un message.
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