Chine Suscepteur UV LED Fabricant, fournisseur, usine

VeTek Semiconductor est un fabricant spécialisé dans les suscepteurs UV LED, possède de nombreuses années d'expérience en recherche, développement et production dans les suscepteurs LED EPI et a été reconnu par de nombreux clients du secteur.

LED, c'est-à-dire diode électroluminescente à semi-conducteur, la nature physique de sa luminescence est qu'après la mise sous tension de la jonction pn du semi-conducteur, sous l'action du potentiel électrique, les électrons et les trous dans le matériau semi-conducteur sont combinés pour générer des photons, de manière à obtenir une luminescence semi-conductrice. Par conséquent, la technologie épitaxiale est l’un des fondements et le cœur des LED, et c’est également le principal facteur décisif pour les caractéristiques électriques et optiques des LED.

La technologie d'épitaxie (EPI) fait référence à la croissance d'un matériau monocristallin sur un substrat monocristallin avec le même agencement de réseau que le substrat. Principe de base : Sur un substrat chauffé à la température appropriée (principalement substrat saphir, substrat SiC et substrat Si), les substances gazeuses indium (In), gallium (Ga), aluminium (Al), phosphore (P) sont contrôlées vers la surface. du substrat pour faire croître un film monocristallin spécifique. À l'heure actuelle, la technologie de croissance des feuilles épitaxiales LED utilise principalement la méthode MOCVD (dépôt météorologique chimique de métaux organiques).

Matériau de substrat épitaxial LED

1. LED rouge et jaune :

GaP et GaAs sont des substrats couramment utilisés pour les LED rouges et jaunes. Les substrats GaP sont utilisés dans la méthode d'épitaxie en phase liquide (LPE), ce qui donne une large plage de longueurs d'onde de 565 à 700 nm. Pour la méthode d'épitaxie en phase gazeuse (VPE), des couches épitaxiales GaAsP sont cultivées, produisant des longueurs d'onde comprises entre 630 et 650 nm. Lors de l'utilisation de MOCVD, les substrats GaAs sont généralement utilisés avec la croissance de structures épitaxiales AlInGaP. Cela permet de surmonter les inconvénients d'absorption de la lumière des substrats GaAs, bien que cela introduise une disparité de réseau, nécessitant des couches tampons pour la croissance des structures InGaP et AlGaInP.

VeTek Semiconductor fournit un suscepteur LED EPI avec revêtement SiC, revêtement TaC :

Suscepteur EPI LED rouge et jaune VEECO Revêtement TaC utilisé dans le suscepteur LED EPI

2. LED bleue et verte :

Substrat GaN : le monocristal GaN est le substrat idéal pour la croissance du GaN, améliorant la qualité des cristaux, la durée de vie des puces, l'efficacité lumineuse et la densité de courant. Cependant, sa préparation difficile limite son application.

Substrat saphir : Le saphir (Al2O3) est le substrat le plus courant pour la croissance du GaN, offrant une bonne stabilité chimique et aucune absorption de la lumière visible. Cependant, il est confronté à des défis liés à une conductivité thermique insuffisante lors du fonctionnement à courant élevé des puces de puissance.

Substrat SiC : Le SiC est un autre substrat utilisé pour la croissance du GaN, se classant au deuxième rang en termes de part de marché. Il offre une bonne stabilité chimique, une conductivité électrique, une conductivité thermique et aucune absorption de la lumière visible. Cependant, son prix est plus élevé et sa qualité inférieure à celle du saphir. Le SiC ne convient pas aux LED UV inférieures à 380 nm. L'excellente conductivité électrique et thermique du SiC élimine le besoin d'une liaison flip-chip pour la dissipation thermique dans les LED GaN de type puissance sur des substrats en saphir. La structure d'électrode supérieure et inférieure est efficace pour la dissipation thermique dans des dispositifs à LED GaN de type puissance.

Suscepteur EPI LED bleu et vert AMEC Suscepteur MOCVD avec revêtement TaC

3. EPI LED UV profond :

Dans l'épitaxie LED ultraviolette profonde (DUV), l'épitaxie LED UV profonde ou LED DUV, les matériaux chimiques couramment utilisés comme substrats comprennent le nitrure d'aluminium (AlN), le carbure de silicium (SiC) et le nitrure de gallium (GaN). Ces matériaux possèdent une bonne conductivité thermique, une bonne isolation électrique et une qualité cristalline, ce qui les rend adaptés aux applications LED DUV dans des environnements à haute puissance et à haute température. Le choix du matériau du substrat dépend de facteurs tels que les exigences de l'application, les processus de fabrication et les considérations de coût.

Suscepteur LED UV profond à revêtement SiC Suscepteur LED UV profond à revêtement TaC