Cet article présente principalement les types de produits, les caractéristiques des produits et les principales fonctions de TaC Coating dans le traitement des semi-conducteurs, et effectue une analyse et une interprétation complètes des produits TaC Coating dans leur ensemble.
En savoir plusCet article présente principalement les types de produits, les caractéristiques des produits et les principales fonctions du Susceptor MOCVD dans le traitement des semi-conducteurs, et effectue une analyse et une interprétation complètes des produits Susceptor MOCVD dans leur ensemble.
En savoir plusDans l’industrie de la fabrication de semi-conducteurs, alors que la taille des dispositifs continue de diminuer, la technologie de dépôt de matériaux en couches minces pose des défis sans précédent. Le dépôt de couche atomique (ALD), en tant que technologie de dépôt de couches minces permettant d'o......
En savoir plusIl est idéal pour construire des circuits intégrés ou des dispositifs semi-conducteurs sur une couche de base cristalline parfaite. Le procédé d'épitaxie (epi) dans la fabrication de semi-conducteurs vise à déposer une fine couche monocristalline, généralement d'environ 0,5 à 20 microns, sur un subs......
En savoir plusLa principale différence entre l'épitaxie et le dépôt de couche atomique (ALD) réside dans leurs mécanismes de croissance de film et leurs conditions de fonctionnement. L'épitaxie fait référence au processus de croissance d'un film mince cristallin sur un substrat cristallin avec une relation d'orie......
En savoir plusLe revêtement CVD TAC est un procédé permettant de former un revêtement dense et durable sur un substrat (graphite). Cette méthode consiste à déposer du TaC sur la surface du substrat à haute température, ce qui donne un revêtement en carbure de tantale (TaC) présentant une excellente stabilité ther......
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