Chine Processus RTA/RTP Fabricant, fournisseur, usine

VeTek Semiconductor fournit un support de tranche de processus RTA/RTP, fabriqué en graphite de haute pureté et en revêtement SiC avecimpureté inférieure à 5 ppm.

Le four de recuit rapide est une sorte d'équipement pour le traitement de recuit des matériaux etProcessus RTA/RTP, en contrôlant le processus de chauffage et de refroidissement du matériau, il peut améliorer la structure cristalline du matériau, réduire les contraintes internes et améliorer les propriétés mécaniques et physiques du matériau. L'un des composants essentiels de la chambre du four de recuit rapide est le support de plaquette/récepteur de plaquettespour le chargement des plaquettes. En tant que réchauffeur de plaquettes dans la chambre de traitement, ceplaque de supportjoue un rôle important dans le traitement rapide de chauffage et d’égalisation de la température.

Le carbure de silicium, le nitrure d'aluminium et le carbure de silicium graphite sont des matériaux disponibles pour le four de recuit rapide, et le principal choix sur le marché est le graphite etrevêtement en carbure de silicium comme matériaux. 

Les éléments suivants sontles fonctionnalités et les excellentes performancesdu support de plaquette de processus RTA RTP à revêtement SiC VeTek Semiconductor :

-Stabilité à haute température: Le revêtement SiC présente une stabilité exceptionnelle à haute température, garantissant l'intégrité de la structure et la résistance mécanique même à des températures extrêmes. Cette capacité le rend parfaitement adapté aux processus de traitement thermique exigeants.

-Excellente conductivité thermique: La couche de revêtement SiC possède une conductivité thermique exceptionnelle, permettant une distribution rapide et uniforme de la chaleur. Cela se traduit par un traitement thermique plus rapide, réduisant considérablement le temps de chauffage et améliorant la productivité globale. En améliorant l’efficacité du transfert de chaleur, il contribue à une efficacité de production plus élevée et à une qualité de produit supérieure.

-Inertie chimique: L'inertie chimique inhérente au carbure de silicium offre une excellente résistance à la corrosion causée par divers produits chimiques. Notre support de tranche en carbure de silicium recouvert de carbone peut fonctionner de manière fiable dans divers environnements chimiques sans contaminer ni endommager les tranches.

-Planéité de la surface: La couche de carbure de silicium CVD assure une surface très plate et lisse, garantissant un contact stable avec les plaquettes pendant le traitement thermique. Cela élimine l'introduction de défauts de surface supplémentaires, garantissant des résultats de traitement optimaux.

-Léger et haute résistance: Notre support de plaquette RTP revêtu de SiC est léger mais possède une résistance remarquable. Cette caractéristique facilite un chargement et un déchargement pratiques et fiables des tranches.

Comment utiliser le support de plaquette RTA RTP Process :

Récepteur et couvercle de récepteur de plaquette à revêtement SiC de VeTek Semiconductor

Récepteur RTA-RTP Support de plaquette RTA RTP Plateau RTP (pour traitement thermique rapide RTA) Plateau RTP (pour traitement thermique rapide RTA) Récepteur RTP Plateau de support de plaquette RTP