Le matériau de la couche épitaxiale de carbure de silicium est du carbure de silicium, qui est généralement utilisé pour fabriquer des dispositifs électroniques et des LED de haute puissance. Il est largement utilisé dans l’industrie des semi-conducteurs en raison de son excellente stabilité thermique, de sa résistance mécanique et de sa conductivité électrique élevée.
Haute pureté : la couche épitaxiale de silicium développée par dépôt chimique en phase vapeur (CVD) présente une pureté extrêmement élevée, une meilleure planéité de surface et une densité de défauts inférieure à celle des tranches traditionnelles.
Le carbure de silicium solide possède d'excellentes propriétés telles qu'une stabilité à haute température, une dureté élevée, une bonne résistance à l'abrasion et une bonne stabilité chimique, il a donc une large gamme d'applications. Voici quelques applications du carbure de silicium solide :