Carbure de tantale poreux

Carbure de tantale poreux

VeTek Semiconductor est un fabricant professionnel et leader de produits en carbure de tantale poreux en Chine. Le carbure de tantale poreux est généralement fabriqué par la méthode de dépôt chimique en phase vapeur (CVD), garantissant un contrôle précis de la taille et de la distribution de ses pores, et constitue un outil matériel dédié aux environnements extrêmes à haute température. Bienvenue à votre consultation ultérieure.

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Description du produit

Le carbure de tantale poreux (TaC) semi-conducteur VeTek est un matériau céramique haute performance qui combine les propriétés du tantale et du carbone. Sa structure poreuse est très adaptée aux applications spécifiques à haute température et dans des environnements extrêmes. Le TaC combine une excellente dureté, stabilité thermique et résistance chimique, ce qui en fait un choix de matériau idéal pour le traitement des semi-conducteurs.


Le carbure de tantale poreux (TaC) est composé de tantale (Ta) et de carbone (C), dans lesquels le tantale forme une forte liaison chimique avec les atomes de carbone, conférant au matériau une durabilité et une résistance à l'usure extrêmement élevées. La structure poreuse du Porous TaC est créée pendant le processus de fabrication du matériau, et la porosité peut être contrôlée en fonction des besoins spécifiques de l'application. Ce produit est généralement fabriqué pardépôt chimique en phase vapeur (CVD)méthode, assurant un contrôle précis de la taille et de la distribution de ses pores.


Molecular structure of Tantalum Carbide

Structure moléculaire du carbure de tantale


Le carbure de tantale poreux (TaC) semi-conducteur VeTek présente les caractéristiques de produit suivantes:


- Porosité: La structure poreuse lui confère différentes fonctions dans des scénarios d'application spécifiques, notamment la diffusion de gaz, la filtration ou la dissipation thermique contrôlée.

- Point de fusion élevé: Le carbure de tantale a un point de fusion extrêmement élevé d'environ 3 880°C, ce qui convient aux environnements à température extrêmement élevée.

- Excellente dureté: Le TaC poreux a une dureté extrêmement élevée d'environ 9 à 10 sur l'échelle de dureté de Mohs, similaire au diamant. , et peut résister à l'usure mécanique dans des conditions extrêmes.

- Stabilité thermique: Le matériau en carbure de tantale (TaC) peut rester stable dans des environnements à haute température et possède une forte stabilité thermique, garantissant ses performances constantes dans des environnements à haute température.

- Haute conductivité thermique: Malgré sa porosité, le carbure de tantale poreux conserve toujours une bonne conductivité thermique, assurant un transfert de chaleur efficace.

- Faible coefficient de dilatation thermique: Le faible coefficient de dilatation thermique du carbure de tantale (TaC) aide le matériau à rester dimensionnellement stable sous des fluctuations de température importantes et réduit l'impact des contraintes thermiques.


Propriétés physiques du revêtement TaC

Propriétés physiques deRevêtement TaC
Densité
14,3 (g/cm³)
Émissivité spécifique
0.3
Coefficient de dilatation thermique
6,3*10-6/K
Dureté (HK)
2000 Hong Kong
Résistance
1×10-5Ohum*cm
Stabilité thermique
<2500℃
Modifications de la taille du graphite
-10 ~ -20 um
Épaisseur du revêtement
Valeur typique ≥20um (35um±10um)

Dans la fabrication de semi-conducteurs, le carbure de tantale poreux (TaC) joue le rôle clé spécifique suivants :


Dans les processus à haute température tels quegravure au plasmaet CVD, le carbure de tantale poreux semi-conducteur VeTek est souvent utilisé comme revêtement protecteur pour les équipements de traitement. Cela est dû à la forte résistance à la corrosion deRevêtement TaCet sa stabilité à haute température. Ces propriétés garantissent qu'il protège efficacement les surfaces exposées à des gaz réactifs ou à des températures extrêmes, garantissant ainsi la réaction normale des processus à haute température.


Dans les processus de diffusion, le carbure de tantale poreux peut servir de barrière de diffusion efficace pour empêcher le mélange de matériaux dans les processus à haute température. Cette fonctionnalité est souvent utilisée pour contrôler la diffusion des dopants dans des processus tels que l'implantation ionique et le contrôle de la pureté des tranches semi-conductrices.


La structure poreuse du carbure de tantale poreux semi-conducteur VeTek est très adaptée aux environnements de traitement des semi-conducteurs qui nécessitent un contrôle ou une filtration précis du flux de gaz. Dans ce procédé, Porous TaC joue principalement le rôle de filtration et de distribution des gaz. Son inertie chimique garantit qu'aucun contaminant n'est introduit lors du processus de filtration. Cela garantit efficacement la pureté du produit traité.


Revêtement en carbure de tantale (TaC) sur une coupe microscopique:


Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 1Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 2Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 3Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 41


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