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Nouvelles de l'industrie

Des entreprises chinoises développeraient des puces 5 nm avec Broadcom !

Selon des informations étrangères, deux sources ont révélé le 24 juin que ByteDance travaillait avec la société américaine de conception de puces Broadcom pour développer un processeur informatique avancé d'intelligence artificielle (IA), qui aidera ByteDance à assurer un approvisionnement adéquat e......

Sanan Optoelectronics Co., Ltd. : les puces SiC de 8 pouces devraient être mises en production en décembre !

En tant que fabricant leader dans l'industrie du SiC, la dynamique associée de Sanan Optoelectronics a reçu une large attention dans l'industrie. Récemment, Sanan Optoelectronics a divulgué une série de derniers développements, impliquant la transformation de 8 pouces, la production de nouvelles usi......

Application de pièces en graphite revêtues de TaC dans des fours monocristallins

Dans la croissance de monocristaux de SiC et d'AlN à l'aide de la méthode de transport physique de vapeur (PVT), des composants cruciaux tels que le creuset, le porte-graines et l'anneau de guidage jouent un rôle essentiel. Comme le montre la figure 2 [1], au cours du processus PVT, le germe cristal......

Différentes voies techniques du four de croissance épitaxiale SiC

Les substrats en carbure de silicium présentent de nombreux défauts et ne peuvent pas être traités directement. Un film mince monocristallin spécifique doit être développé dessus via un processus épitaxial pour fabriquer des plaquettes de puce. Ce film mince constitue la couche épitaxiale. Presque t......

Matériau d'épitaxie en carbure de silicium

Le matériau de la couche épitaxiale de carbure de silicium est du carbure de silicium, qui est généralement utilisé pour fabriquer des dispositifs électroniques et des LED de haute puissance. Il est largement utilisé dans l’industrie des semi-conducteurs en raison de son excellente stabilité thermiq......

Caractéristiques de l'épitaxie de silicium

Haute pureté : la couche épitaxiale de silicium développée par dépôt chimique en phase vapeur (CVD) présente une pureté extrêmement élevée, une meilleure planéité de surface et une densité de défauts inférieure à celle des tranches traditionnelles.

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