Récepteur ALD

En tant que professionnelRécepteur ALDfabricant en Chine, notre produitRécepteur ALDLe contrôle précis de la température, la distribution uniforme du gaz, l'excellente conductivité thermique et d'autres caractéristiques du produit déterminent queRécepteur ALDjoue un rôle crucial dans le processus de dépôt de couche atomique (ALD). Rôle important, bienvenue votre consultation.

Dépôt uniforme de couches minces:ALD Susceptor assure un dépôt uniforme de couches atomiques sur toute la surface de la tranche pendant le processus de dépôt de couche atomique (ALD). Sa conception rotative unique permet aux gaz et aux réactifs d'entrer en contact uniformément avec la surface de la plaquette, ce qui donne une épaisseur de film uniforme. Ceci est essentiel pour la fabrication de semi-conducteurs de haute précision.

Améliorer la qualité des dépôts: En optimisant le contrôle de la température et la distribution des gaz, le suscepteur ALD améliore considérablement la qualité et les performances du film, réduisant ainsi les défauts et la non-uniformité. Cela le rend idéal pour la fabrication de semi-conducteurs et d’appareils électroniques de haute précision, garantissant la fiabilité et les performances du produit.

Prend en charge le traitement multi-wafers:Certaines conceptions de suscepteurs ALD permettent de traiter plusieurs tranches simultanément, augmentant ainsi l'efficacité de la production. Ceci est particulièrement important pour les environnements de fabrication à haut débit, capables de répondre aux besoins d’une production à grande échelle.

S'adapte à différentes tailles et types de plaquettes:Les suscepteurs ALD sont généralement conçus pour une compatibilité élevée et peuvent prendre en charge différentes tailles et types de plaquettes. Cela le rend efficace dans une variété de processus de production, offrant une plus grande flexibilité et adaptabilité.

Réduire les coûts de production:En raison de sa distribution efficace de gaz et de ses capacités de chauffage uniformes, le suscepteur ALD augmente l'efficacité du processus de dépôt, réduisant ainsi les déchets de matériaux et les coûts de production. Cela contribue non seulement à améliorer l’efficacité de la production, mais réduit également considérablement les coûts de fabrication.

Propriétés physiques de base du revêtement CVD SiC:

Ateliers de production:

Aperçu de la chaîne industrielle de l’épitaxie des puces semi-conductrices：