Palette en porte-à-faux SiC de haute pureté

VeTek Semiconductor est l'un des principaux fabricants et innovateurs de palettes cantilever en SiC de haute pureté en Chine. Les palettes en porte-à-faux SiC de haute pureté sont couramment utilisées dans les fours à diffusion de semi-conducteurs comme plates-formes de transfert ou de chargement de plaquettes. VeTek Semiconductor s'engage à fournir des technologies et des solutions de produits avancées pour l'industrie des semi-conducteurs. Nous sommes impatients de devenir votre partenaire à long terme en Chine.

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Description du produit

La palette en porte-à-faux SiC de haute pureté est un composant clé utilisé dans les équipements de traitement des semi-conducteurs. Le produit est fabriqué en carbure de silicium (SiC) de haute pureté. Combiné avec ses excellentes caractéristiques de haute pureté, de haute stabilité thermique et de résistance à la corrosion, il est largement utilisé dans des processus tels que le transfert de plaquettes, le support et le traitement à haute température, offrant une garantie fiable pour garantir la précision du processus et la qualité du produit.

Généralement, la palette en porte-à-faux SiC de haute pureté joue les rôles spécifiques suivants dans le processus de traitement des semi-conducteurs :

Transfert de plaquette: La palette en porte-à-faux SiC de haute pureté est généralement utilisée comme dispositif de transfert de tranches dans les fours de diffusion ou d'oxydation à haute température. Sa dureté élevée le rend résistant à l'usure et difficile à déformer lors d'une utilisation à long terme, et peut garantir que la plaquette reste positionnée avec précision pendant le processus de transfert. Combiné à sa résistance aux températures élevées et à la corrosion, il peut transférer en toute sécurité des tranches dans et hors du tube du four dans des environnements à haute température sans provoquer de contamination ou d'endommagement des tranches.

Prise en charge des plaquettes: Le matériau SiC a un faible coefficient de dilatation thermique, ce qui signifie que sa taille change moins lorsque la température change, ce qui permet de maintenir un contrôle précis du processus. Dans les processus de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) ou de dépôt physique en phase vapeur (PVD), la palette en porte-à-faux SiC est utilisée pour soutenir et fixer la plaquette afin de garantir que la plaquette reste stable et plate pendant le processus de dépôt, améliorant ainsi l'uniformité et la qualité du film. .

Application de procédés à haute température: SiC Cantilever Paddle a une excellente stabilité thermique et peut résister à des températures allant jusqu'à 1600°C. Par conséquent, ce produit est largement utilisé dans les processus de recuit, d’oxydation, de diffusion et autres à haute température.

Propriétés physiques de base de la palette en porte-à-faux SiC de haute pureté:

Palette en porte-à-faux SiC de haute puretémagasins:

Aperçu de la chaîne industrielle de l’épitaxie des puces semi-conductrices:

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