En tant qu'élément important des pièces en graphite demi-lune à revêtement SiC, le feutre rigide à revêtement CVD SiC joue un rôle important dans la conservation de la chaleur pendant le processus de croissance épitaxiale du SiC. VeTek Semiconductor est un fabricant et fournisseur mature de feutre rigide à revêtement CVD SiC, qui peut fournir aux clients des produits de feutre rigide à revêtement CVD SiC adaptés et excellents. VeTek Semiconductor a hâte de devenir votre partenaire à long terme dans l'industrie de l'épitaxie.
Le feutre rigide avec revêtement CVD SiC est un composant obtenu par revêtement CVD SiC sur la surface du feutre rigide en graphite, qui agit comme une couche d'isolation thermique.Revêtement CVD-SiCpossède d'excellentes propriétés telles qu'une résistance à haute température, d'excellentes propriétés mécaniques, une stabilité chimique, une bonne conductivité thermique, une isolation électrique et une excellente résistance à l'oxydation. Ainsi, le feutre rigide de revêtement CVD SiC a une bonne résistance et une bonne résistance aux températures élevées, et est généralement utilisé pour l'isolation thermique et le support des chambres de réaction épitaxiales.
● Résistance aux hautes températures: Le feutre rigide avec revêtement CVD SiC peut résister à des températures allant jusqu'à 1000 ℃ ou plus, selon le type de matériau.
● Stabilité chimique: Le feutre rigide du revêtement CVD SiC peut rester stable dans l'environnement chimique de croissance épitaxiale et résister à l'érosion des gaz corrosifs.
● Performances d'isolation thermique: Le feutre rigide avec revêtement CVD SiC a un bon effet d'isolation thermique et peut efficacement empêcher la chaleur de se dissiper de la chambre de réaction.
● Résistance mécanique: Le feutre dur avec revêtement SiC a une bonne résistance mécanique et une bonne rigidité, de sorte qu'il peut toujours conserver sa forme et supporter d'autres composants à haute température.
● Isolation thermique: Le feutre rigide avec revêtement CVD SiC assure une isolation thermique pourEpitaxie SiCchambres de réaction, maintient l'environnement à haute température dans la chambre et assure la stabilité de la croissance épitaxiale.
● Soutien structurel: Le feutre rigide avec revêtement CVD SiC fournit un support pourpièces en demi-luneet d'autres composants pour éviter d'éventuelles déformations ou dommages sous haute température et haute pression.
● Contrôle du débit de gaz: Il permet de contrôler le débit et la distribution du gaz dans la chambre de réaction, assurant l'uniformité du gaz dans différentes zones, améliorant ainsi la qualité de la couche épitaxiale.
VeTek Semiconductor peut vous fournir un feutre rigide à revêtement CVD SiC personnalisé en fonction de vos besoins. VeTek Semiconductor attend votre demande.
Propriétés physiques de base du revêtement CVD SiC
Propriété
Valeur typique
Structure cristalline
Phase β FCC polycristalline, principalement orientée (111)
Densité
3,21 g/cm³
Dureté
Dureté Vickers 2500 (charge de 500 g)
Grainez-vouse
2~10μm
Pureté chimique
Pureté chimique99,99995 %
Capacité thermique
640 J·kg-1·K-1
Température de sublimation
2700 ℃
Résistance à la flexion
415 MPa RT 4 points
Module de Young
Courbure 430 Gpa 4pt, 1300℃
Conductivité thermique
300W·m-1·K-1
Expansion thermique (CTE)
4,5×10-6K-1