Goupille de levage de plaquette

VeTek Semiconductor est l'un des principaux fabricants et innovateurs de broches de levage EPI pour plaquettes en Chine. Nous sommes spécialisés dans le revêtement SiC sur la surface du graphite depuis de nombreuses années. Nous proposons une broche de levage de plaquette EPI pour le processus Epi. Avec une qualité élevée et un prix compétitif, nous vous invitons à visiter notre usine en Chine.

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Description du produit

VeTek Semiconductor fournit un revêtement SiC et un matériau de revêtement TaC à un prix compétitif et de haute qualité, bienvenue pour nous contacter.

La broche de levage de tranche VeTek Semiconductor EPI est un dispositif clé spécialement conçu pour la fabrication de semi-conducteurs. Il est utilisé pour soulever et transporter des plaquettes, garantissant leur sécurité et leur stabilité pendant la fabrication. Nous fournissons une goupille de levage de plaquettes revêtues de SiC, une goupille de pointe et un anneau de préchauffage pour le processus EPI.

Nos broches de levage de plaquettes EPI offrent les caractéristiques et avantages suivants :

Haute précision et stabilité : nos broches de levage de plaquettes EPI utilisent des processus et des matériaux avancés pour garantir une précision et une stabilité élevées lors du levage et de la manipulation des plaquettes. Il peut positionner et fixer avec précision les plaquettes, évitant ainsi la déviation et l'endommagement des plaquettes pendant la fabrication.

Sécurité et fiabilité : nos broches de levage de plaquettes EPI sont fabriquées à partir de matériaux à haute résistance pour une excellente durabilité et fiabilité. Il est capable de résister au poids et à la pression, garantissant que la plaquette ne sera pas endommagée ou ne tombera pas accidentellement pendant la manipulation.

Automatisation et efficacité : nos broches de levage de plaquettes EPI sont conçues pour fonctionner de manière autonome et s'intégrer de manière transparente aux équipements de fabrication de semi-conducteurs. Il peut soulever et déplacer les plaquettes rapidement et avec précision, augmentant ainsi l'efficacité de la production et réduisant le besoin d'opérations manuelles.

Compatibilité et applicabilité : nos broches de levage de plaquettes EPI conviennent à une large gamme de tailles et de types de plaquettes, y compris des plaquettes de différents diamètres et matériaux. Il peut être compatible avec une variété d’équipements et de processus de fabrication de semi-conducteurs et convient à une variété d’environnements de production.

Assistance de haute qualité et fiable : nous nous engageons à fournir des produits fiables et de haute qualité et à fournir une assistance et un service complets à nos clients. Nos broches de levage de plaquettes sont soumises à un contrôle de qualité et à des tests rigoureux pour garantir leurs performances et leur durabilité.

Que vous soyez dans la fabrication de plaquettes, la recherche et le développement de semi-conducteurs ou la production, nos broches de levage de plaquettes vous offrent une solution fiable. Contactez-nous pour en savoir plus sur nos produits de broches de levage de plaquettes et commencez à travailler ensemble pour un avenir brillant !

Propriétés physiques de base du revêtement CVD SiC :

Propriétés physiques de base du revêtement CVD SiC
Propriété	Valeur typique
Structure en cristal	Phase β FCC polycristalline, principalement orientée (111)
Densité	3,21 g/cm³
Dureté	Dureté Vickers 2500 (charge de 500 g)
Taille d'un grain	2~10μm
Pureté chimique	99,99995%
Capacité thermique	640 J·kg-1·K-1
Température de sublimation	2700 ℃
Résistance à la flexion	415 MPa RT 4 points
Module d'Young	Courbure 430 Gpa 4pt, 1300℃
Conductivité thermique	300W·m-1·K-1
Expansion thermique (CTE)	4,5×10-6K-1