Mandrin à vide en céramique poreuse

Vetek Semiconductor est un fabricant chinois de mandrins à vide en céramique poreuse, utilisés pour fixer et maintenir des tranches de silicium ou d'autres substrats par adsorption sous vide afin de garantir que ces matériaux ne se déplaceront pas ou ne se déformeront pas pendant le traitement. Vetek Semiconducto peut fournir des produits de mandrins à vide en céramique poreuse de haute pureté avec des performances de coût élevées. Bienvenue à vous renseigner.

Vetek Semiconductor propose une série d'excellents produits de mandrins à vide en céramique poreuse, spécialement conçus pour répondre aux exigences strictes de la fabrication moderne de semi-conducteurs. Ces transporteurs présentent d'excellentes performances en termes de propreté, de planéité et de configuration personnalisable du chemin de gaz.

Une propreté inégalée:

Élimination des impuretés: Chaque mandrin à vide en céramique poreuse est fritté à 1 200 °C pendant 1,5 heure pour éliminer complètement les impuretés et garantir que la surface est aussi propre que neuve.

Emballage sous vide: Pour maintenir l'état propre, le mandrin à vide en céramique poreuse est emballé sous vide pour éviter toute contamination pendant le stockage et le transport.

Excellente planéité:

Adsorption de plaquettes solides: Le mandrin à vide en céramique poreuse maintient une force d'adsorption de -60 kPa et -70 kPa avant et après le placement de la plaquette, respectivement, garantissant que la plaquette est fermement adsorbée et l'empêche de tomber pendant la transmission à grande vitesse.

Usinage de précision: L'arrière du support est usiné avec précision pour garantir une surface complètement plane, maintenant ainsi un joint sous vide stable et empêchant les fuites.

Conception personnalisée:

Centré sur le client: Vetek Semiconductor travaille en étroite collaboration avec ses clients pour concevoir des configurations de chemins de gaz qui répondent à leurs exigences spécifiques en matière de processus afin d'optimiser l'efficacité et les performances.

Tests de qualité stricts:

Vetek effectue des tests complets sur chaque pièce de mandrin à vide Porous SiC pour garantir sa qualité :

Test d'oxydation: Le mandrin à vide SiC est rapidement chauffé à 900°C dans un environnement sans oxygène pour simuler le processus d'oxydation réel. Avant cela, le support est recuit à 1 100 °C pour garantir des performances optimales.

Test de résidus métalliques: Pour éviter toute contamination, le support est chauffé à une température élevée de 1 200 °C pour détecter si des impuretés métalliques sont précipitées.

Essai sous vide: En mesurant la différence de pression entre le mandrin à vide Porous SiC avec et sans la plaquette, ses performances de scellage sous vide sont strictement testées. La différence de pression doit être contrôlée à ± 2 kPa.

Tableau des caractéristiques du mandrin à vide en céramique poreuse :

Ateliers de mandrins à vide SiC poreux VeTek Semiconductor :