La plaque support de gravure PSS pour semi-conducteurs de VeTek Semiconductor est un support en graphite ultra-pur de haute qualité conçu pour les processus de manipulation de plaquettes. Nos transporteurs ont d'excellentes performances et peuvent bien fonctionner dans des environnements difficiles, des températures élevées et des conditions de nettoyage chimique difficiles. Nos produits sont largement utilisés sur de nombreux marchés européens et américains et nous sommes impatients de devenir votre partenaire à long terme en Chine.
En tant que fabricant professionnel, nous souhaitons vous fournir une plaque support de gravure PSS de haute qualité pour semi-conducteurs. La plaque support de gravure PSS pour semi-conducteurs de VeTek Semiconductor est un composant spécialisé utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour le processus de gravure par spectroscopie de source de plasma (PSS). Cette plaque joue un rôle crucial dans le support et le transport des plaquettes semi-conductrices pendant le processus de gravure. Bienvenue à nous consulter !
Conception de précision : la plaque de support est conçue avec des dimensions précises et une planéité de surface pour garantir une gravure uniforme et cohérente sur les tranches semi-conductrices. Il fournit une plate-forme stable et contrôlée pour les tranches, permettant des résultats de gravure précis et fiables.
Résistance au plasma : La plaque support présente une excellente résistance au plasma utilisé dans le processus de gravure. Il n'est pas affecté par les gaz réactifs et le plasma à haute énergie, garantissant ainsi une durée de vie prolongée et des performances constantes.
Conductivité thermique : la plaque de support présente une conductivité thermique élevée pour dissiper efficacement la chaleur générée pendant le processus de gravure. Cela aide à maintenir un contrôle optimal de la température et empêche la surchauffe des tranches semi-conductrices.
Compatibilité : la plaque support de gravure PSS est conçue pour être compatible avec différentes tailles de plaquettes semi-conductrices couramment utilisées dans l'industrie, garantissant ainsi la polyvalence et la facilité d'utilisation dans différents processus de fabrication.
Propriétés physiques de base du revêtement CVD SiC | |
Propriété | Valeur typique |
Structure en cristal | Phase β FCC polycristalline, principalement orientée (111) |
Densité | 3,21 g/cm³ |
Dureté | Dureté Vickers 2500 (charge de 500 g) |
Taille d'un grain | 2~10μm |
Pureté chimique | 99,99995% |
Capacité thermique | 640 J·kg-1·K-1 |
Température de sublimation | 2700 ℃ |
Résistance à la flexion | 415 MPa RT 4 points |
Module d'Young | Courbure 430 Gpa 4pt, 1300℃ |
Conductivité thermique | 300W·m-1·K-1 |
Expansion thermique (CTE) | 4,5×10-6K-1 |