Déflecteur de revêtement CVD SiC

Le déflecteur de revêtement CVD SiC de Vetek Semiconductor est principalement utilisé dans l'épitaxie Si. Il est généralement utilisé avec des barillets d'extension en silicone. Il combine la haute température unique et la stabilité du déflecteur de revêtement CVD SiC, ce qui améliore considérablement la répartition uniforme du flux d'air dans la fabrication de semi-conducteurs. Nous pensons que nos produits peuvent vous apporter une technologie avancée et des solutions de produits de haute qualité.

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Description du produit

En tant que fabricant professionnel, nous souhaitons vous offrir une haute qualitéDéflecteur de revêtement CVD SiC.

Grâce au développement continu de processus et d'innovations matérielles,Vetek Semi-conducteurc'estDéflecteur de revêtement CVD SiCprésente les caractéristiques uniques de stabilité à haute température, de résistance à la corrosion, de dureté élevée et de résistance à l'usure. Ces caractéristiques uniques déterminent que le déflecteur de revêtement CVD SiC joue un rôle important dans le processus d'épitaxie, et son rôle comprend principalement les aspects suivants :

Répartition uniforme du flux d'air: La conception ingénieuse du déflecteur de revêtement CVD SiC permet d'obtenir une distribution uniforme du flux d'air pendant le processus d'épitaxie. Un flux d’air uniforme est essentiel pour une croissance uniforme et une amélioration de la qualité des matériaux. Le produit peut guider efficacement le flux d'air, éviter un flux d'air local excessif ou faible et assurer l'uniformité des matériaux épitaxiaux.

Contrôler le processus d'épitaxie: La position et la conception du déflecteur de revêtement CVD SiC peuvent contrôler avec précision la direction et la vitesse du flux d'air pendant le processus d'épitaxie. En ajustant sa disposition et sa forme, un contrôle précis du flux d'air peut être obtenu, optimisant ainsi les conditions d'épitaxie et améliorant le rendement et la qualité de l'épitaxie.

Réduire les pertes matérielles: Un réglage raisonnable du déflecteur de revêtement CVD SiC peut réduire la perte de matière pendant le processus d'épitaxie. Une distribution uniforme du flux d'air peut réduire les contraintes thermiques causées par un chauffage inégal, réduire le risque de casse et de dommages des matériaux et prolonger la durée de vie des matériaux épitaxiaux.

Améliorer l'efficacité de l'épitaxie: La conception du déflecteur de revêtement CVD SiC peut optimiser l'efficacité de la transmission du flux d'air et améliorer l'efficacité et la stabilité du processus d'épitaxie. Grâce à l'utilisation de ce produit, les fonctions de l'équipement épitaxial peuvent être maximisées, l'efficacité de la production peut être améliorée et la consommation d'énergie peut être réduite.

Propriétés physiques de base deDéflecteur de revêtement CVD SiC：