Creuset de revêtement CVD TaC

Le suscepteur de rotation de revêtement TaC joue un rôle clé dans les processus de dépôt à haute température tels que CVD et MBE, et constitue un composant important pour le traitement des plaquettes dans la fabrication de semi-conducteurs. Parmi eux,Revêtement TaCa une excellente résistance aux températures élevées, à la corrosion et à la stabilité chimique, ce qui garantit une haute précision et une haute qualité pendant le traitement des plaquettes.

Le creuset de revêtement CVD TaC se compose généralement d'un revêtement TaC etgraphitesubstrat. Parmi eux, le TaC est un matériau céramique à point de fusion élevé, avec un point de fusion allant jusqu'à 3 880 °C. Il présente une dureté extrêmement élevée (dureté Vickers jusqu'à 2000 HV), une résistance à la corrosion chimique et une forte résistance à l'oxydation. Par conséquent, le revêtement TaC est un excellent matériau résistant aux températures élevées dans la technologie de traitement des semi-conducteurs.

Le substrat en graphite présente une bonne conductivité thermique (la conductivité thermique est d'environ 21 W/m·K) et une excellente stabilité mécanique. Cette caractéristique détermine que le graphite devient un revêtement idéalsubstrat.

Le creuset de revêtement CVD TaC est principalement utilisé dans les technologies de traitement des semi-conducteurs suivantes:

Fabrication de plaquettes: Le creuset à revêtement CVD TaC VeTek Semiconductor présente une excellente résistance aux températures élevées (point de fusion jusqu'à 3 880 °C) et à la corrosion, il est donc souvent utilisé dans les processus clés de fabrication de plaquettes tels que le dépôt en phase vapeur à haute température (CVD) et la croissance épitaxiale. Combiné à l'excellente stabilité structurelle du produit dans des environnements à ultra-haute température, il garantit que l'équipement peut fonctionner de manière stable pendant une longue période dans des conditions extrêmement difficiles, améliorant ainsi efficacement l'efficacité de la production et la qualité des tranches.

Processus de croissance épitaxiale: Dans les procédés d'épitaxie tels quedépôt chimique en phase vapeur (CVD)et l'épitaxie par jet moléculaire (MBE), le creuset à revêtement CVD TaC joue un rôle clé dans le transport. Son revêtement TaC peut non seulement maintenir la haute pureté du matériau sous des températures extrêmes et une atmosphère corrosive, mais également empêcher efficacement la contamination des réactifs sur le matériau et la corrosion du réacteur, garantissant ainsi la précision du processus de production et la cohérence du produit.

En tant que principal fabricant et leader chinois de creusets à revêtement CVD TaC, VeTek Semiconductor peut fournir des produits et des services techniques personnalisés en fonction des exigences de votre équipement et de vos processus. Nous espérons sincèrement devenir votre partenaire à long terme en Chine.

Revêtement en carbure de tantale (TaC) sur une coupe microscopique：

Propriétés physiques du revêtement TaC：

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