Des produits

VeTek est un fabricant et fournisseur professionnel en Chine. Notre usine fournit de la fibre de carbone, des céramiques de carbure de silicium, de l'épitaxie de carbure de silicium, etc. Si vous êtes intéressé par nos produits, vous pouvez vous renseigner maintenant et nous vous répondrons dans les plus brefs délais.
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Support de plaquette de revêtement CVD TaC

Support de plaquette de revêtement CVD TaC

En tant que fabricant professionnel de produits de support de plaquette de revêtement CVD TaC et usine en Chine, VeTek Semiconductor CVD TaC Coating Wafer Carrier est un outil de transport de plaquette spécialement conçu pour les environnements à haute température et corrosifs dans la fabrication de semi-conducteurs. et le support de plaquette de revêtement CVD TaC présente une résistance mécanique élevée, une excellente résistance à la corrosion et une stabilité thermique, offrant la garantie nécessaire pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs de haute qualité. Vos demandes supplémentaires sont les bienvenues.

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Porte-plaquette Epi

Porte-plaquette Epi

VeTek Semiconductor est un fabricant et une usine professionnel de supports de plaquettes Epi en Chine. Epi Wafer Holder est un support de plaquette pour le processus d'épitaxie dans le traitement des semi-conducteurs. C'est un outil clé pour stabiliser la plaquette et assurer une croissance uniforme de la couche épitaxiale. Il est largement utilisé dans les équipements d'épitaxie tels que MOCVD et LPCVD. C'est un appareil irremplaçable dans le processus d'épitaxie. Bienvenue à votre consultation ultérieure.

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Support de plaquette Aixtron Satellite

Support de plaquette Aixtron Satellite

En tant que fabricant professionnel et innovateur de produits Aixtron Satellite Wafer Carrier en Chine, Aixtron Satellite Wafer Carrier de VeTek Semiconductor est un support de plaquette utilisé dans les équipements AIXTRON, principalement utilisé dans les processus MOCVD dans le traitement des semi-conducteurs, et est particulièrement adapté aux hautes températures et hautes précisions. processus de traitement des semi-conducteurs. Le support peut fournir un support de tranche stable et un dépôt de film uniforme pendant la croissance épitaxiale MOCVD, ce qui est essentiel pour le processus de dépôt de couche. Bienvenue à votre consultation ultérieure.

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Réacteur LPE Halfmoon SiC EPI

Réacteur LPE Halfmoon SiC EPI

VeTek Semiconductor est un fabricant professionnel de produits de réacteur LPE Halfmoon SiC EPI, innovateur et leader en Chine. Le réacteur LPE Halfmoon SiC EPI est un dispositif spécialement conçu pour produire des couches épitaxiales de carbure de silicium (SiC) de haute qualité, principalement utilisées dans l'industrie des semi-conducteurs. VeTek Semiconductor s'engage à fournir des technologies et des solutions de produits de pointe pour l'industrie des semi-conducteurs et accueille favorablement vos demandes complémentaires.

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Chauffage de revêtement TaC

Chauffage de revêtement TaC

VeTek Semiconductor est l'un des principaux fabricants et innovateurs de réchauffeurs de revêtement TaC en Chine. Ce produit a un point de fusion extrêmement élevé (environ 3880°C). Le point de fusion élevé du TaC Coating Heater lui permet de fonctionner à des températures extrêmement élevées, en particulier lors de la croissance de couches épitaxiales de nitrure de gallium (GaN) dans le processus de dépôt chimique en phase vapeur organométallique (MOCVD). VeTek Semiconductor s'engage à fournir des technologies et des solutions de produits avancées pour l'industrie des semi-conducteurs. Nous sommes impatients de devenir votre partenaire à long terme en Chine.

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Dépôt physique en phase vapeur

Dépôt physique en phase vapeur

Le dépôt physique en phase vapeur (PVD) des semi-conducteurs Vetek est une technologie de processus avancée largement utilisée dans le traitement de surface et la préparation de couches minces. La technologie PVD utilise des méthodes physiques pour transformer directement les matériaux solides ou liquides en gaz et former un film mince sur la surface du substrat cible. Cette technologie présente les avantages d'une haute précision, d'une grande uniformité et d'une forte adhérence, et est largement utilisée dans les semi-conducteurs, les dispositifs optiques, les revêtements d'outils et les revêtements décoratifs. Bienvenue pour discuter avec nous !

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