Le support de revêtement CVD TaC de VeTek Semiconductor est principalement conçu pour le processus épitaxial de fabrication de semi-conducteurs. Le point de fusion ultra-élevé du support de revêtement CVD TaC, son excellente résistance à la corrosion et sa stabilité thermique exceptionnelle déterminent le caractère indispensable de ce produit dans le processus épitaxial de semi-conducteurs. Nous espérons sincèrement établir une relation commerciale à long terme avec vous.
En savoir plusenvoyer une demandeLe déflecteur de revêtement CVD SiC de Vetek Semiconductor est principalement utilisé dans l'épitaxie Si. Il est généralement utilisé avec des barillets d'extension en silicone. Il combine la haute température unique et la stabilité du déflecteur de revêtement CVD SiC, ce qui améliore considérablement la répartition uniforme du flux d'air dans la fabrication de semi-conducteurs. Nous pensons que nos produits peuvent vous apporter une technologie avancée et des solutions de produits de haute qualité.
En savoir plusenvoyer une demandeLe cylindre en graphite CVD SiC de Vetek Semiconductor joue un rôle essentiel dans les équipements semi-conducteurs, servant de bouclier de protection dans les réacteurs pour protéger les composants internes dans des températures et pressions élevées. Il protège efficacement contre les produits chimiques et la chaleur extrême, préservant ainsi l’intégrité de l’équipement. Avec une résistance exceptionnelle à l’usure et à la corrosion, il assure longévité et stabilité dans des environnements difficiles. L'utilisation de ces couvertures améliore les performances des dispositifs semi-conducteurs, prolonge la durée de vie et atténue les exigences de maintenance et les risques de dommages. Bienvenue à nous consulter.
En savoir plusenvoyer une demandeLes buses de revêtement CVD SiC de Vetek Semiconductor sont des composants essentiels utilisés dans le processus d'épitaxie LPE SiC pour le dépôt de matériaux en carbure de silicium lors de la fabrication de semi-conducteurs. Ces buses sont généralement constituées d'un matériau en carbure de silicium à haute température et chimiquement stable pour garantir la stabilité dans les environnements de traitement difficiles. Conçus pour un dépôt uniforme, ils jouent un rôle clé dans le contrôle de la qualité et de l'uniformité des couches épitaxiales cultivées dans les applications de semi-conducteurs. Dans l'attente d'établir une coopération à long terme avec vous.
En savoir plusenvoyer une demandeVetek Semiconductor fournit un revêtement protecteur CVD SiC utilisé pour l'épitaxie LPE SiC. Le terme « LPE » fait généralement référence à l'épitaxie basse pression (LPE) dans le dépôt chimique en phase vapeur basse pression (LPCVD). Dans la fabrication de semi-conducteurs, le LPE est une technologie de processus importante pour la croissance de films minces monocristallins, souvent utilisés pour faire croître des couches épitaxiales de silicium ou d'autres couches épitaxiales de semi-conducteurs. N'hésitez pas à nous contacter pour plus de questions.
En savoir plusenvoyer une demandeVetek Semiconductor est professionnel dans la fabrication de revêtements CVD SiC et TaC sur des matériaux en graphite et en carbure de silicium. Nous fournissons des produits OEM et ODM comme un socle revêtu de SiC, un support de plaquette, un mandrin de plaquette, un plateau de support de plaquette, un disque planétaire, etc. Avec une salle blanche et un dispositif de purification de qualité 1000, nous pouvons vous fournir des produits avec des impuretés inférieures à 5 ppm. de toi bientôt.
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