Anneau de support revêtu de SiC

Semi-conducteur VeTek, un fabricant et fournisseur leader basé en Chine, se spécialise dans la production d'une gamme de produits, notammentAnneaux de support revêtus de SiC, revêtements de carbure de silicium CVD, revêtements de carbure de tantale, SiC en vrac, poudres de SiC et matériaux SiC de haute pureté. Notre engagement consiste à offrir une assistance technique complète et des résolutions de produits optimales adaptées au secteur des semi-conducteurs. N'hésitez pas à nous contacter pour plus d'informations et d'assistance.

Semi-conducteur VeTekc'estAnneaux de support revêtus de SiCsont une nouvelle génération de matériaux résistants aux hautes températures. En tant que revêtements résistants à la corrosion, revêtements résistants à l'oxydation et revêtements résistants à l'usure, ils peuvent être utilisés dans des environnements supérieurs à 1 650 ℃ et sont largement utilisés dans les domaines des semi-conducteurs.

Les caractéristiques de haute qualité deAnneaux de support revêtus de SiCjouent un rôle très important dans la croissance épitaxiale des composants semi-conducteurs de troisième génération.

Maintenir l'uniformité de la température: Les anneaux de support revêtus de SiC ont une excellente conductivité thermique et peuvent fournir une répartition uniforme de la température pendant la croissance épitaxiale. Cela contribue à réduire les gradients thermiques et les contraintes sur la surface de la tranche, améliorant ainsi la qualité de la couche épitaxiale.

Stabilité chimique extrême: Au cours du processus de croissance épitaxiale,Anneaux de support revêtus de SiCsont capables de résister aux attaques chimiques des gaz de réaction, prolongeant ainsi la durée de vie des anneaux de support et maintenant l'intégrité du processus. Cette stabilité chimique contribue à réduire le risque de contamination et à améliorer la pureté et les performances des dispositifs semi-conducteurs.

Positionnement précis: Les anneaux de support revêtus de SiC sont capables de maintenir le positionnement précis de la tranche, ce qui est essentiel pour obtenir un dépôt de couche uniforme. Ce positionnement précis permet d'assurer la constance de l'épaisseur et de la qualité de la couche épitaxiale.

Propriétés physiques de base du revêtement CVD SiC:

Atelier de production de semi-conducteurs VeTek:

Aperçu de la chaîne industrielle de l’épitaxie des puces semi-conductrices: