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Chine Revêtement en carbure de silicium Fabricant, fournisseur, usine

VeTek Semiconductor se spécialise dans la production de produits de revêtement en carbure de silicium ultra purs, ces revêtements sont conçus pour être appliqués sur des composants en graphite purifié, en céramique et en métal réfractaire.

Nos revêtements de haute pureté sont principalement destinés à être utilisés dans les industries des semi-conducteurs et de l'électronique. Ils servent de couche protectrice pour les supports de tranches, les suscepteurs et les éléments chauffants, les protégeant des environnements corrosifs et réactifs rencontrés dans des processus tels que MOCVD et EPI. Ces processus font partie intégrante du traitement des plaquettes et de la fabrication des dispositifs. De plus, nos revêtements sont bien adaptés aux applications dans les fours à vide et le chauffage d'échantillons, où l'on rencontre des environnements sous vide poussé, réactifs et oxygénés.

Chez VeTek Semiconductor, nous proposons une solution complète grâce à nos capacités avancées d'atelier d'usinage. Cela nous permet de fabriquer les composants de base en graphite, en céramique ou en métaux réfractaires et d'appliquer les revêtements céramiques SiC ou TaC en interne. Nous fournissons également des services de revêtement pour les pièces fournies par le client, garantissant ainsi la flexibilité nécessaire pour répondre à divers besoins.

Nos produits de revêtement en carbure de silicium sont largement utilisés dans l'épitaxie Si, l'épitaxie SiC, le système MOCVD, le processus RTP/RTA, le processus de gravure, le processus de gravure ICP/PSS, le processus de divers types de LED, y compris les LED bleues et vertes, les LED UV et les UV profonds. LED etc., adaptée aux équipements de LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI, etc.

Pièces de réacteur que nous pouvons réaliser :

Revêtement en carbure de silicium plusieurs avantages uniques :

Silicon Carbide Coating several unique advantages

Paramètre de revêtement en carbure de silicium VeTek Semiconductor

Propriétés physiques de base du revêtement CVD SiC
Propriété	Valeur typique
Structure cristalline	Phase β FCC polycristalline, principalement orientée (111)
Revêtement SiC Densité	3,21 g/cm³
Revêtement SiCDureté	Dureté Vickers 2500 (charge de 500 g)
Taille des grains	2~10μm
Pureté chimique	99,99995%
Capacité thermique	640 J·kg^-1·K^-1
Température de sublimation	2700 ℃
Résistance à la flexion	415 MPa RT 4 points
Module de Young	Courbure 430 Gpa 4pt, 1300℃
Conductivité thermique	300W·m^-1·K^-1
Expansion thermique (CTE)	4,5 × 10-6K^-1

STRUCTURE CRISTALLINE DU FILM CVD SIC

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE

Suscepteur Epi recouvert de carbure de silicium Support de plaquette de revêtement SiC Couverture satellite avec revêtement SiC pour MOCVD Suscepteur épi de plaquette de revêtement CVD SiC Élément chauffant à revêtement CVD SiC Support de plaquette Aixtron Satellite Récepteur Epi à revêtement SiC Pièces en graphite demi-lune avec revêtement SiC

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Suscepteur épitaxial GaN à base de silicium

Le suscepteur épitaxial GaN à base de silicium est le composant principal requis pour la production épitaxiale de GaN. VeTek Semiconductor, en tant que fabricant et fournisseur professionnel, s'engage à fournir un suscepteur épitaxial GaN à base de silicium de haute qualité. Notre suscepteur épitaxial GaN à base de silicium est conçu pour les systèmes de réacteurs épitaxiaux GaN à base de silicium et présente une pureté élevée, une excellente résistance aux températures élevées et une résistance à la corrosion. VeTek Semiconductor s'engage à fournir des produits de qualité à des prix compétitifs, n'hésitez pas à vous renseigner.

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Pièce demi-lune de 8 pouces pour réacteur LPE

VeTek Semiconductor est l'un des principaux fabricants d'équipements semi-conducteurs en Chine, se concentrant sur la R&D et la production de pièces demi-lune de 8 pouces pour le réacteur LPE. Nous avons accumulé une riche expérience au fil des années, notamment dans les matériaux de revêtement SiC, et nous nous engageons à fournir des solutions efficaces adaptées aux réacteurs épitaxiaux LPE. Notre pièce demi-lune de 8 pouces pour réacteur LPE offre d'excellentes performances et compatibilité et constitue un élément clé indispensable dans la fabrication épitaxiale. Faites bon accueil à votre demande pour en savoir plus sur nos produits.

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Suscepteur de crêpes à revêtement SiC pour plaquettes LPE PE3061S 6''

Le suscepteur de crêpes à revêtement SiC pour les tranches LPE PE3061S 6'' est l'un des composants de base utilisés dans le traitement des tranches épitaxiales des tranches 6''. VeTek Semiconductor est actuellement l'un des principaux fabricants et fournisseurs de suscepteurs de crêpes à revêtement SiC pour plaquettes LPE PE3061S 6'' en Chine. Le suscepteur de crêpes à revêtement SiC qu'il fournit présente d'excellentes caractéristiques telles qu'une résistance élevée à la corrosion, une bonne conductivité thermique et une bonne uniformité. Dans l'attente de votre demande.

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Support avec revêtement SiC pour LPE PE2061S

VeTek Semiconductor est l'un des principaux fabricants et fournisseurs de supports à revêtement SiC pour LPE PE2061S en Chine. Le support revêtu de SiC pour LPE PE2061S convient au réacteur épitaxial en silicium LPE. En tant que fond de la base du canon, le support revêtu de SiC pour LPE PE2061S peut résister à des températures élevées de 1 600 degrés Celsius, permettant ainsi d'obtenir une durée de vie ultra longue du produit et de réduire les coûts pour le client. Dans l'attente de votre demande et de votre communication ultérieure.

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Plaque supérieure avec revêtement SiC pour LPE PE2061S

VeTek Semiconductor est profondément engagé dans les produits de revêtement SiC depuis de nombreuses années et est devenu l'un des principaux fabricants et fournisseurs de plaques supérieures revêtues de SiC pour LPE PE2061S en Chine. La plaque supérieure à revêtement SiC pour LPE PE2061S que nous proposons est conçue pour les réacteurs épitaxiaux en silicium LPE et est située sur le dessus avec la base du baril. Cette plaque supérieure à revêtement SiC pour LPE PE2061S présente d'excellentes caractéristiques telles qu'une grande pureté, une excellente stabilité thermique et une excellente uniformité, ce qui contribue à la croissance de couches épitaxiales de haute qualité. Quel que soit le produit dont vous avez besoin, nous attendons votre demande avec impatience.

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Suscepteur de baril revêtu de SiC pour LPE PE2061S

En tant que l'une des principales usines de fabrication de suscepteurs de tranches en Chine, VeTek Semiconductor a réalisé des progrès continus dans le domaine des produits de suscepteurs de tranches et est devenue le premier choix de nombreux fabricants de tranches épitaxiales. Le suscepteur cylindrique à revêtement SiC pour LPE PE2061S fourni par VeTek Semiconductor est conçu pour les tranches LPE PE2061S 4''. Le suscepteur est doté d'un revêtement durable en carbure de silicium qui améliore les performances et la durabilité pendant le processus LPE (épitaxie en phase liquide). Faites bon accueil à votre demande, nous sommes impatients de devenir votre partenaire à long terme.

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En tant que fabricant et fournisseur professionnel Revêtement en carbure de silicium en Chine, nous disposons de notre propre usine. Que vous ayez besoin de services personnalisés pour répondre aux besoins spécifiques de votre région ou que vous souhaitiez acheter du Revêtement en carbure de silicium avancé et durable fabriqué en Chine, vous pouvez nous laisser un message.