Suscepteur en graphite revêtu de TaC
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Suscepteur en graphite revêtu de TaC

Le suscepteur de graphite à revêtement TaC de VeTek Semiconductor utilise la méthode de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) pour préparer un revêtement de carbure de tantale sur la surface des pièces en graphite. Ce procédé est le plus abouti et possède les meilleures propriétés de revêtement. Le suscepteur en graphite revêtu de TaC peut prolonger la durée de vie des composants en graphite, inhiber la migration des impuretés du graphite et garantir la qualité de l'épitaxie. VeTek Semiconductor attend votre demande avec impatience.

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Description du produit

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Point de fusion du matériau céramique en carbure de tantale jusqu'à 3880 ℃, est un point de fusion élevé et une bonne stabilité chimique du composé, son environnement à haute température peut toujours maintenir des performances stables, en outre, il a également une résistance à haute température, une résistance à la corrosion chimique, un bon produit chimique et compatibilité mécanique avec les matériaux en carbone et d'autres caractéristiques, ce qui en fait un matériau de revêtement protecteur de substrat en graphite idéal. Le revêtement en carbure de tantale peut protéger efficacement les composants en graphite de l'influence de l'ammoniac chaud, de la vapeur d'hydrogène et de silicium et du métal fondu dans un environnement d'utilisation difficile, prolonger considérablement la durée de vie des composants en graphite et inhiber la migration des impuretés dans le graphite. assurant la qualité de l'épitaxie et de la croissance cristalline. Il est principalement utilisé dans le processus céramique humide.

Le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est la méthode de préparation la plus aboutie et la plus optimale pour le revêtement de carbure de tantale sur la surface du graphite.


Méthode de revêtement CVD TaC pour le suscepteur en graphite revêtu de TaC :

Le processus de revêtement utilise respectivement du TaCl5 et du propylène comme source de carbone et de tantale, et de l'argon comme gaz porteur pour amener la vapeur de pentachlorure de tantale dans la chambre de réaction après gazéification à haute température. Sous la température et la pression cibles, la vapeur du matériau précurseur est adsorbée sur la surface de la pièce en graphite et une série de réactions chimiques complexes telles que la décomposition et la combinaison d'une source de carbone et d'une source de tantale se produisent. Parallèlement, une série de réactions de surface telles que la diffusion du précurseur et la désorption des sous-produits sont également impliquées. Enfin, une couche protectrice dense est formée sur la surface de la pièce en graphite, ce qui empêche la pièce en graphite d'être stable dans des conditions environnementales extrêmes. Les scénarios d’application des matériaux graphite sont considérablement élargis.


Paramètre de produit du suscepteur en graphite revêtu de TaC :

Propriétés physiques du revêtement TaC
Densité 14,3 (g/cm³)
Émissivité spécifique 0.3
Coefficient de dilatation thermique 6.3 10-6/K
Dureté (HK) 2000 Hong Kong
Résistance 1×10-5 Ohms*cm
Stabilité thermique <2500℃
Modifications de la taille du graphite -10~-20um
Épaisseur du revêtement Valeur typique ≥20um (35um±10um)


Ateliers de production :


Aperçu de la chaîne industrielle de l’épitaxie des puces semi-conductrices :


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