Support de plaquette SiC horizontal

VeTek Semi-conducteursSupport de plaquette SiC horizontal/Boat a un point de fusion extrêmement élevé (environ 2700°C), ce qui permet auSupport de plaquette SiC horizontal/Bateau pour travailler de manière stable dans des environnements à haute température sans déformation ni dégradation. Cette caractéristique est particulièrement importante dans le processus de fabrication des semi-conducteurs, notamment dans les processus tels que le recuit à haute température ou le dépôt chimique en phase vapeur (CVD).

LeSupport de plaquette SiC horizontal/Boat joue spécifiquement les rôles suivants dans le processus de transport des supports de plaquettes :

Support et support de tranche de silicium: Le bateau horizontal SiC Wafer Boat est principalement utilisé pour transporter et soutenir des plaquettes de silicium lors de la fabrication de semi-conducteurs. Il peut organiser fermement plusieurs tranches de silicium ensemble pour garantir qu'elles restent en bonne position et stables tout au long du processus de traitement.

Chauffage et refroidissement uniformes: En raison de la conductivité thermique élevée du SiC, le Wafer Boat peut répartir efficacement la chaleur de manière uniforme sur toutes les tranches de silicium. Cela permet d'obtenir un chauffage ou un refroidissement uniforme des tranches de silicium pendant le traitement à haute température, garantissant ainsi la cohérence et la fiabilité du processus de traitement.

Prévenir la contamination: La stabilité chimique du SiC lui permet de bien fonctionner dans des environnements gazeux corrosifs et à haute température, réduisant ainsi l'exposition des plaquettes de silicium à d'éventuels contaminants ou réactifs, garantissant ainsi la pureté et la qualité des plaquettes de silicium.

En fait, le bateau horizontal SiC Wafer peut jouer le rôle ci-dessus en raison de ses caractéristiques de produit uniques :

Excellente stabilité chimique: Le matériau SiC présente une excellente résistance à la corrosion face à une variété de milieux chimiques. Lors du traitement de gaz ou de liquides corrosifs, SiC Wafer Boat peut résister efficacement à la corrosion chimique et protéger les plaquettes de silicium contre la contamination ou les dommages.

Conductivité thermique élevée: La conductivité thermique élevée du SiC aide à répartir uniformément la chaleur dans le processus de support et à réduire l'accumulation de chaleur. Cela peut améliorer la précision du contrôle de la température pendant le traitement de précision et garantir un chauffage ou un refroidissement uniforme des tranches de silicium.

Faible coefficient de dilatation thermique: Le faible coefficient de dilatation thermique du matériau SiC signifie que le changement dimensionnel du SiC Wafer Boat est très faible lors des changements de température. Cela aide à maintenir la stabilité dimensionnelle pendant le traitement à haute température et empêche la déformation ou le déplacement de position des tranches de silicium provoqué par la dilatation thermique.

Propriétés physiques de base du support de plaquette SiC horizontal:

Atelier de production de semi-conducteurs VeTek :

Aperçu de la chaîne industrielle de l’épitaxie des puces semi-conductrices :