Tube de four à diffusion SiC

Diagramme schématique de fonctionnement du tube du four à diffusion SiC

Le tube de four à diffusion SiC à semi-conducteur VeTek présente les avantages suivants :

Excellentes propriétés mécaniques à haute température: Le tube de four à diffusion SiC possède les meilleures propriétés mécaniques à haute température de tous les matériaux céramiques connus, y compris une excellente résistance et résistance au fluage. Cela le rend particulièrement adapté aux applications nécessitant une stabilité à long terme à des températures élevées.

Excellente résistance à l'oxydation: Le tube de four à diffusion SiC de VeTek Semiconductor présente une excellente résistance à l'oxydation, la meilleure de toutes les céramiques non oxydées. Cette propriété garantit une stabilité et des performances à long terme dans des environnements à haute température, réduisant ainsi le risque de dégradation et prolongeant la durée de vie du tube.

● Haute résistance à la flexion: Le tube de four à diffusion VeTekSemi SiC a une résistance à la flexion supérieure à 200 MPa, garantissant d'excellentes propriétés mécaniques et une intégrité structurelle dans les conditions de contraintes élevées typiques des processus de fabrication de semi-conducteurs.

● Excellente résistance à la corrosione: L'inertie chimique du tube de four SiC offre une excellente résistance à la corrosion, ce qui rend ces tubes idéaux pour une utilisation dans les environnements chimiques difficiles souvent rencontrés dans le traitement des semi-conducteurs.

● Haute résistance à l'usure: Les fours tubulaires SiC ont une forte résistance à l'usure, ce qui est essentiel pour maintenir la stabilité dimensionnelle et réduire les besoins de maintenance lorsqu'ils sont utilisés pendant de longues périodes dans des conditions abrasives.

● Avec revêtement CVD: Le revêtement sic de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) de semi-conducteur VeTek a un niveau de pureté supérieur à 99,9995 %, une teneur en impuretés inférieure à 5 ppm et des impuretés métalliques nocives inférieures à 1 ppm. Le processus de revêtement CVD garantit que le tube répond aux exigences strictes d'étanchéité au vide de 2-3Torr, ce qui est essentiel pour les environnements de fabrication de semi-conducteurs de haute précision.

● Application dans les fours à diffusion: Ces tubes sic sont conçus pour les fours à diffusion de semi-conducteurs, où ils jouent un rôle clé dans les processus à haute température tels que le dopage et l'oxydation. Leurs propriétés matérielles avancées garantissent qu’ils peuvent résister aux conditions difficiles de ces processus, améliorant ainsi l’efficacité et la fiabilité de la production de semi-conducteurs.

VeTek Semiconductor s'engage depuis longtemps à fournir des technologies et des solutions de produits avancées pour l'industrie des semi-conducteurs, et prend en charge des services professionnels personnalisés. En choisissant le tube de four à diffusion SiC de VeTek Semiconductor, vous obtiendrez un produit offrant d'excellentes performances et une grande fiabilité pour répondre aux différents besoins de la fabrication moderne de semi-conducteurs. Nous espérons sincèrement être votre partenaire à long terme en Chine.

Magasins de produits de tubes de four à diffusion SiC VeTek Semiconductor :