Piédestal en silicone

Le socle en silicium VeTek Semiconductor est un composant clé dans les processus de diffusion et d'oxydation des semi-conducteurs. En tant que plate-forme dédiée au transport de bateaux en silicium dans des fours à haute température, le Silicon Pedestal présente de nombreux avantages uniques, notamment une uniformité de température améliorée, une qualité de tranche optimisée et des performances améliorées des dispositifs à semi-conducteurs. Pour plus d'informations sur le produit, n'hésitez pas à nous contacter.

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Description du produit

Le suscepteur de silicium VeTek Semiconductor est un produit en silicium pur conçu pour assurer la stabilité de la température dans le tube du réacteur thermique pendant le traitement des plaquettes de silicium, améliorant ainsi l'efficacité de l'isolation thermique. Le traitement des plaquettes de silicium est un processus extrêmement précis et la température joue un rôle crucial, affectant directement l'épaisseur et l'uniformité du film de la plaquette de silicium.

Le socle en silicium est situé dans la partie inférieure du tube du réacteur thermique du four, supportant le siliciumsupport de plaquettetout en offrant une isolation thermique efficace. À la fin du processus, il refroidit progressivement jusqu'à température ambiante avec le support de plaquette de silicium.

Fonctions de base et avantages des socles en silicium semi-conducteur VeTek :

Fournir un support stable pour garantir la précision du processus

Le socle en silicium fournit une plate-forme de support stable et hautement résistante à la chaleur pour le bateau en silicium dans la chambre du four à haute température. Cette stabilité peut empêcher efficacement le déplacement ou l'inclinaison du bateau en silicium pendant le traitement, évitant ainsi d'affecter l'uniformité du flux d'air ou de détruire la répartition de la température, garantissant ainsi une haute précision et une cohérence du processus.

Améliorer l'uniformité de la température dans le four et améliorer la qualité des plaquettes

En isolant la nacelle en silicium du contact direct avec le fond ou la paroi du four, la base en silicium peut réduire la perte de chaleur provoquée par conduction, obtenant ainsi une répartition plus uniforme de la température dans le tube de réaction thermique. Cet environnement thermique uniforme est essentiel pour obtenir une uniformité de diffusion sur la tranche et de la couche d'oxyde, améliorant ainsi considérablement la qualité globale de la tranche.

Optimiser les performances d’isolation thermique et réduire la consommation d’énergie

Les excellentes propriétés d'isolation thermique du matériau à base de silicium contribuent à réduire les pertes de chaleur dans la chambre du four, améliorant ainsi considérablement l'efficacité énergétique du processus. Ce mécanisme de gestion thermique efficace accélère non seulement le cycle de chauffage et de refroidissement, mais réduit également la consommation d'énergie et les coûts d'exploitation, offrant ainsi une solution plus économique pour la fabrication de semi-conducteurs.

Spécifications du socle en silicium semi-conducteur VeTek

Structure du produit	Intégré, Soudage
Type conducteur/dopage	Coutume
Résistivité	Faible résistance (par exemple <0,015, <0,02...). ;
	Résistance modérée (E.G.1-4) ;
	Haute résistance (par exemple 60-90) ;
	Personnalisation client
Type de matériau	Polycristal/Monocristal
Orientation des cristaux	Personnalisé